HMC芯片使用垂直管道(或者說穿孔)將多個獨立芯片堆疊封裝在一起,產(chǎn)品原型的帶寬就已高達(dá)128GB/s,最終成品還會更高,而目前普通內(nèi)存最高也不過12.8GB/s。與此同時,HMC能夠?qū)⑿酒姆庋b尺寸減小最多90%,同時傳輸數(shù)據(jù)消耗的能量也減少70%。
IBM新開發(fā)的3-D TSV制造工藝正好就是用來連接3D微架構(gòu)的,將成為HMC內(nèi)存投入商業(yè)性量產(chǎn)的基礎(chǔ)。
IBM會在紐約州東菲什基爾(East Fishkill)的工廠,采用32nm HKMG工藝制造美光HMC內(nèi)存芯片,而有關(guān)其TSV技術(shù)的更多細(xì)節(jié)將在近日的IEEE國際電子設(shè)備會議上公布。
HMC內(nèi)存初期面向大規(guī)模網(wǎng)絡(luò)、高性能計算、工業(yè)自動化等專業(yè)領(lǐng)域,但最終會爭取進(jìn)入消費級產(chǎn)品。