盡管困難和阻力越來越大，Intel以其無以倫比的技術(shù)實力，仍在努力推進半導(dǎo)體工藝的深發(fā)展，14nm剛剛開始登場，就已經(jīng)在大談特談7nm了。

Intel院士Mark Bohr表示：“我的日常工作就是研究7nm。我相信，沒有EUV也能做到。”

EUV就是極紫外光刻。這十幾年來，半導(dǎo)體工藝雖然在不斷進步，但是核心光刻技術(shù)一直沒有實質(zhì)性的突破，還是老一套，EUV就是眾望所歸的下一站，但其難度之大就連Intel也是異常吃力，結(jié)果一拖再拖，至今遙遙無期。

Intel認(rèn)為，EUV技術(shù)已經(jīng)來不及用于10nm，甚至7nm上都很難說，盡管很多人對此抱著很大的期望。

Bohr進一步解釋說：“我對EUV非常感興趣，真的能幫助工藝進步，部分時候還能將三四個遮罩縮減為一個，但不幸的是，它還沒有做好準(zhǔn)備，產(chǎn)能和可靠性還不夠。”

Bohr沒有透露如何在沒有EUV的情況下實現(xiàn)10nm、7nm，不過他指出Intel 14nm在一個或多個關(guān)鍵層上使用了新的三重曝光技術(shù)。

他還表示，2015年底的時候，Intel會安排部分代工客戶體驗嘗鮮一下10nm，這也暗示新工藝產(chǎn)品將無法按原計劃推出，得等到2016年了。如此樂觀估計，7nm至少得2018年。