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鎂光與索尼合力研發(fā)出大容量高速存儲器

人民網(wǎng) 發(fā)表于:14年04月08日 09:28 [綜述] DOIT.com.cn

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[導(dǎo)讀]索尼和鎂光公司宣布其研發(fā)小組開發(fā)出高速、大容量ReRAM(可變電阻式存儲器),該類型存儲器填補了DRAM與NAND之間的性能鴻溝,有望提高整體系統(tǒng)性能。


近日,索尼和鎂光公司宣布其研發(fā)小組開發(fā)出高速、大容量ReRAM(可變電阻式存儲器),該類型存儲器填補了DRAM與NAND之間的性能鴻溝,有望提高整體系統(tǒng)性能。

新產(chǎn)品的容量為16Gbit,超過了目前的DRAM,而且具備超過NAND閃存的高速性。數(shù)據(jù)傳輸速度在讀取時為1GB/秒,寫入時為200MB/秒,訪問等待時間在讀取時為2μs,寫入時為10μs。採用1GB/秒的DDR接口以及與DRAM接近的8存儲體儲存器架構(gòu),通過并聯(lián)運行實現(xiàn)了高速化。

據(jù)悉,電阻變化元件採用CuTe膜和絕緣膜的雙層構(gòu)造,通過銅離子的移動在元件內(nèi)部形成導(dǎo)電橋來改變電阻值。儲存器單元由一個選擇晶體管和電阻變化元件構(gòu)成。採用27nm工藝、3層銅布線技術(shù)制造,單元面積為4374nm2,芯片面積為168mm2。

[責任編輯:朱朋博]
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