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共 9 篇文章

標(biāo)簽:泛林集團(tuán)

通過工藝建模進(jìn)行后段制程金屬方案分析-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺(tái)

通過工藝建模進(jìn)行后段制程金屬方案分析

虛擬半導(dǎo)體工藝建模是研究金屬線設(shè)計(jì)選擇更為經(jīng)濟(jì)、快捷的方法 l 由于阻擋層相對尺寸及電阻率增加問題,半導(dǎo)體行業(yè)正在尋找替代銅的金屬線材料。 l 在較小尺寸中,釕的性能優(yōu)于銅和鈷,因此是較有潛力的替代材料。 隨著互連尺寸縮...

使用SEMulator3D進(jìn)行虛擬工藝故障排除和研究-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺(tái)

使用SEMulator3D進(jìn)行虛擬工藝故障排除和研究

SEMulator3D 工藝建模在開發(fā)早期識別工藝和設(shè)計(jì)問題,減少了開發(fā)延遲、晶圓制造成本和上市時(shí)間 現(xiàn)代半導(dǎo)體工藝極其復(fù)雜,包含成百上千個(gè)互相影響的獨(dú)立工藝步驟。在開發(fā)這些工藝步驟時(shí),上游和下游的工藝模塊之間常出現(xiàn)不可預(yù)期的障礙,造成開發(fā)...

為刻蝕終點(diǎn)探測進(jìn)行原位測量 使用SEMulator3D工藝步驟進(jìn)行刻蝕終點(diǎn)探測-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺(tái)

為刻蝕終點(diǎn)探測進(jìn)行原位測量 使用SEMulator3D工藝步驟進(jìn)行刻蝕終點(diǎn)探測

半導(dǎo)體行業(yè)一直專注于使用先進(jìn)的刻蝕設(shè)備和技術(shù)來實(shí)現(xiàn)圖形的微縮與先進(jìn)技術(shù)的開發(fā)。隨著半導(dǎo)體器件尺寸縮減、工藝復(fù)雜程度提升,制造工藝中刻蝕工藝波動(dòng)的影響將變得明顯??涛g終點(diǎn)探測用于確定刻蝕工藝是否完成、且沒有剩余材料可供刻蝕。這類終點(diǎn)探測有助于...

泛林集團(tuán)如何助力觸覺技術(shù)的實(shí)現(xiàn)-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺(tái)

泛林集團(tuán)如何助力觸覺技術(shù)的實(shí)現(xiàn)

在摻鈧氮化鋁脈沖激光沉積領(lǐng)域的創(chuàng)新或成為推動(dòng)無鉛壓電觸覺設(shè)備大批量生產(chǎn)的關(guān)鍵 視頻游戲、虛擬現(xiàn)實(shí)和增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)的興起正在推動(dòng)觸覺技術(shù)需求的增長 泛林集團(tuán)的脈沖激光沉積(PLD)技術(shù)可助力下一代觸覺技術(shù) 試著想象一場沉浸式的虛擬體驗(yàn):在探索數(shù)字世...

謝 世誠謝 世誠AI與大模型
泛林集團(tuán)以FIRST Global機(jī)器人挑戰(zhàn)賽為舞臺(tái),培養(yǎng)未來的STEM人才-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺(tái)

泛林集團(tuán)以FIRST Global機(jī)器人挑戰(zhàn)賽為舞臺(tái),培養(yǎng)未來的STEM人才

來自近200個(gè)國家或地區(qū)的學(xué)生們參與最具跨國性質(zhì)的創(chuàng)新競賽 2023年度 FIRST Global機(jī)器人挑戰(zhàn)賽于10月7-10日在新加坡舉辦。全球?qū)⒔?00個(gè)國家或地區(qū)的青少年在合作中競爭,在機(jī)器人領(lǐng)域展開了一場充滿活力...

泛林集團(tuán)發(fā)布2022年ESG報(bào)告,展示在實(shí)現(xiàn)“零凈排放”方面取得的進(jìn)展-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺(tái)

泛林集團(tuán)發(fā)布2022年ESG報(bào)告,展示在實(shí)現(xiàn)“零凈排放”方面取得的進(jìn)展

北京時(shí)間2023年7月27日——近日,泛林集團(tuán) (Nasdaq:LRCX) 在 2022 年環(huán)境、社會(huì)和公司治理 (ESG) 報(bào)告中宣布,公司在實(shí)現(xiàn) ESG 目標(biāo)方面取得了可量化的進(jìn)展。  泛林集團(tuán)總裁兼首席執(zhí)行官Tim Arch...

異構(gòu)集成推動(dòng)面板制程設(shè)備(驅(qū)動(dòng)器)的改變-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺(tái)

異構(gòu)集成推動(dòng)面板制程設(shè)備(驅(qū)動(dòng)器)的改變

——對系統(tǒng)級封裝(SiP)的需求將基板設(shè)計(jì)推向更小的特征(類似于扇出型面板級封裝FO-PLP) ——需求趨同使得面板級制程系統(tǒng)的研發(fā)成本得以共享 晶體管微縮成本的不斷提升,促使行業(yè)尋找創(chuàng)新方法,更新迭代提升芯片和系統(tǒng)的性能。正因此,異構(gòu)集成...

泛林集團(tuán):引入空氣間隙以減少前道工序中的寄生電容-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺(tái)

泛林集團(tuán):引入空氣間隙以減少前道工序中的寄生電容

減少柵極金屬和晶體管的源極/漏極接觸之間的寄生電容可以減少器件的開關(guān)延遲。減少寄生電容的方法之一是設(shè)法降低柵極和源極/漏極之間材料層的有效介電常數(shù),這可以通過在該位置的介電材料中引入空氣間隙來實(shí)現(xiàn)。這種類型的方式過去已經(jīng)用于后道工序 (BE...