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標簽:上海光學(xué)精密機械研究所

前ASML首席科學(xué)家林楠推動中國EUV最新突破-DOIT-數(shù)據(jù)產(chǎn)業(yè)媒體與服務(wù)平臺

前ASML首席科學(xué)家林楠推動中國EUV最新突破

2025年4月29日,據(jù)南華早報報道稱,國內(nèi)研究團隊成功構(gòu)建一個以國際競爭參數(shù)運行的極紫外 (EUV) 光源平臺,突破了國產(chǎn)先進芯片的障礙。該團隊來自中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所,由曾任荷蘭ASML公司光源技術(shù)負責(zé)人的林楠領(lǐng)導(dǎo),這項成果...

崔 歡歡崔 歡歡先進存力